特許
J-GLOBAL ID：200903042618077438

蒸気加硫装置

発明者：
大石 鎮麿

大石 鎮麿 について


出願人/特許権者：
株式会社テイエルブイ

株式会社テイエルブイ について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-213374
公開番号（公開出願番号）：特開2003-025341
出願日： 2001年07月13日
公開日（公表日）： 2003年01月29日
要約：
【要約】【課題】 ラッピングを不要にして加硫工程を簡略化し、作業時間を短縮できる蒸気加硫装置を得ること。【解決手段】 密閉状の加硫缶1に蒸気供給管2と圧縮空気供給管3を接続する。蒸気供給管2の端部で加硫缶1内にスプレーノズル20を取り付ける。圧力コントローラを介して圧力センサ12と調節弁7,10を接続する。圧力センサ12で検出した圧力値に応じて、それぞれの調節弁7,10の弁開度を調節する。加硫缶1内に所定圧力の蒸気と圧縮空気を供給することによって、それぞれの分圧に応じた任意の圧力と温度で加硫を行うことができる。
請求項（抜粋）：
ゴムの未加硫物を密閉状容器内に配置し、当該容器内に蒸気供給管から蒸気を供給して未加硫物に蒸気を直接接触させて加硫するものにおいて、密閉状容器内に所定圧力の圧縮空気を供給する圧縮空気供給管を接続して、密閉状容器内を圧縮空気と蒸気の混合状態として加硫すると共に、蒸気供給管の容器側端部にスプレーノズルを取り付けたことを特徴とする蒸気加硫装置。
IPC (2件)：
B29C 35/04 ,  B29K 21:00
FI (2件)：
B29C 35/04 ,  B29K 21:00
Fターム (8件)：
4F203AA45 ,  4F203AA46 ,  4F203AH04 ,  4F203DA11 ,  4F203DB01 ,  4F203DC04 ,  4F203DD01 ,  4F203DL15
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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