特許
J-GLOBAL ID:200903042625072360

マルチ・スライス型計算機式断層写真法システムにおいてX線ビームの位置を決定するシステム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 生沼 徳二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-331334
公開番号(公開出願番号):特開平9-215688
出願日: 1996年12月12日
公開日(公表日): 1997年08月19日
要約:
【要約】【課題】 システム経費及び処理時間を大幅に増大させることなくアーティファクトの低減を容易に改善することのできるマルチ・スライス型計算機式断層写真法システムにおいてX線ビームの位置を決定するシステムを提供する。【解決手段】 X線ビームの位置を決定するシステム50が、トゥー・スライス・システムに適用可能に構成されている。個別の列にある隣接した検出器セル56、58からの信号を比較して焦点の位置を決定する。検出器セル56によって出力される信号の信号強度A及び検出器セル58によって出力される信号の信号強度Bが、焦点60の位置と関係付けられる。ファン・ビームの中心線のz位置は、信号強度A及びBを比[(A-B)/(A+B)]に従って関係付けることにより決定され得る。この比はビーム位置を表しており、この比を用いてビームを所望される位置に維持するように作像システムのプリ・ペイシェント・コリメータ62の調節を制御することができる。
請求項(抜粋):
マルチ・スライス型計算機式断層写真法システム(10)においてX線ビームの位置を決定するシステム(50)であって、前記計算機式断層写真法システム(10)は、焦点(60)を有しているX線源(14)と、z軸に沿って変位した少なくとも2つの列の検出器セル(52、54)とを含んでおり、前記X線源(14)は、z軸に沿ってX線ビームを発生しており、前記ビーム位置決定システム(50)は、第1の前記列(52)に設けられた第1の検出器(56)と、第2の前記列(54)に設けられた第2の検出器(58)とから個別の信号を取得し、該個別の信号の強度からビーム位置を決定するように構成されているマルチ・スライス型計算機式断層写真法システム(10)においてX線ビームの位置を決定するシステム(50)。
IPC (3件):
A61B 6/03 320 ,  G01T 1/29 ,  G21K 1/04
FI (3件):
A61B 6/03 320 Y ,  G01T 1/29 C ,  G21K 1/04 R
引用特許:
審査官引用 (4件)
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