特許
J-GLOBAL ID:200903042638558289

高出力遠隔励起源を用いた堆積チャンバクリーニング技術

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 芳樹 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-290256
公開番号(公開出願番号):特開平10-149989
出願日: 1997年09月16日
公開日(公表日): 1998年06月02日
要約:
【要約】【課題】電子デバイス製造に使用される堆積チャンバをクリーニングするための方法。【解決手段】 堆積チャンバ外の遠隔チャンバ内に前駆体ガスを供給し、高出力源を用いて遠隔チャンバ内で前駆体ガスを活性化して反応種を形成し、反応種を遠隔チャンバから堆積チャンバ内に流入させ、遠隔チャンバから堆積チャンバ内に流入させた反応種を用いて堆積チャンバ内部をクリーニングすることからなる方法。
請求項(抜粋):
堆積チャンバをクリーニングするための方法であって、プロセスチャンバ外の遠隔チャンバとプロセスチャンバとの間に差圧が生じるように、堆積チャンバ外の遠隔チャンバ内に前駆体ガスを供給する、供給のステップと、約3000ワット〜約12000ワットの出力を用いて遠隔チャンバ内で前駆体ガスを活性化して反応種を形成する、前駆体活性化のステップと、反応種を遠隔チャンバから堆積チャンバ内に流入させる、流入のステップとを備える方法。
引用特許:
審査官引用 (4件)
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