特許
J-GLOBAL ID：200903042717586174

統合脱エタン塔/エチレン精留塔

発明者：
カ-ル シュトルク

カ-ル シュトルク について


出願人/特許権者：
ケロッグ ブラウン アンド ルート,インコーポレイテッド

ケロッグ ブラウン アンド ルート,インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-066475
公開番号（公開出願番号）：特開2000-273468
出願日： 2000年03月10日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：
【要約】【課題】 統合脱エタン塔/エチレン精留塔を提供すること。【解決手段】 エチレン、エタン及びC3+を含む供給流をエチレン流、エタン流及びC3+流に分離するための統合脱エタン塔/エチレン精留塔であって、還流上部と下部とを収容し、前記部の各々が多重気-液接触要素を含む単一シェルと;下部を脱エタン塔区分とエチレンストリッパー区分とに分離する一般的な垂直壁と;本質的にエチレンとエタンとから成る脱エタン塔区分からのオーバーヘッド蒸気流と、本質的にC3とより重質の成分とから成るボトム流とを生成するために、少なくとも1つの供給流を該塔の下部の脱エタン塔区分の少なくとも1つの供給ステージに供給するための供給ラインと;脱エタン塔区分とエチレンストリッパー区分とから塔上部への蒸気の通過を促進し、液体を塔上部から脱エタン塔区分の上部ステージへの通過と、エチレンストリッピング区分への通過とに分割するための該塔の上部の下端部における分配パンと;を含む統合塔。
請求項（抜粋）：
エチレン、エタン及びC3+を含む供給流をエチレン流、エタン流及びC3+流に分離するための統合脱エタン塔/エチレン精留塔であって、還流上部と下部とを収容し、前記部の各々が多重気-液接触要素を含む単一シェルと;下部を脱エタン塔区分とエチレンストリッパー区分とに分離する一般的な垂直壁と;本質的にエチレンとエタンとから成る脱エタン塔区分からのオーバーヘッド蒸気流と、本質的にC3とより重質の成分とから成るボトム流とを生成するために、少なくとも1つの供給流を、該塔の下部の脱エタン塔区分の少なくとも1つの供給ステージに供給するための供給ラインであって、該供給ステージは、該供給ステージの上方の多重吸収ステージと該供給ステージの下方の多重ストリッピング・ステージとの間にある該供給ラインと;脱エタン塔区分とエチレンストリッパー区分とから塔上部への蒸気の通過を促進し、液体を塔上部から脱エタン塔区分の上部ステージへの通過と、エチレンストリッピング区分への通過とに分割するための該塔の上部の下端部における分配パンと;を含む統合塔。
IPC (6件)：
C10G 7/00 ,  C07C 7/04 ,  C07C 9/06 ,  C07C 11/04 ,  C10G 7/12 ,  C10G 53/02
FI (6件)：
C10G 7/00 ,  C07C 7/04 ,  C07C 9/06 ,  C07C 11/04 ,  C10G 7/12 ,  C10G 53/02
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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