特許

J-GLOBAL ID：200903042736235498

レーザ加工装置

発明者： 竹田 次郎 ,  中村 和人 ,  田中 宏和
出願人/特許権者： オムロン株式会社
代理人 (1件)： 中野 雅房
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-116525
公開番号（公開出願番号）：特開平6-297176
出願日： 1993年04月19日
公開日（公表日）： 1994年10月25日
要約：

【要約】【目的】 投影倍率の調整が簡単にでき、しかも、常に一定の状態で加工状況を監視することができるマスク投影式のレーザ加工装置を提供する。【構成】 レーザ発振器2から発振されたレーザビームαの光軸L2上に、光軸L2に沿って移動可能なマスク移動装置4を配置し、レーザビームαを整形するためのマスク3を設ける。また、光軸L2上に、焦点距離を連続的に変化ならしめる可変焦点距離光学装置5を配置する。一方、対象物上の加工状況を観察する監視装置8の光軸L1上には、反射ミラー6を配置し可変焦点距離光学装置5を通過したレーザビームβの進行方向を直角に変更すると共に、対物レンズ7を固定して配置し、さらにレーザビームβを集光して対象物9上にマスク3の像を結像させる。レーザ加工装置1は、マスク3の位置と可変焦点距離光学装置5の焦点距離を調整することで、マスク3の像の投影倍率を変更することができる。

請求項（抜粋）：

マスクにより整形されたレーザビームを照射することによって対象物を加工するレーザ加工装置において、前記マスクの像を倍率変換して前記対象物に結像するための投影倍率変更手段と、前記対象物の加工状況を観察するための監視手段とを備え、前記投影倍率変更手段は、前記監視手段の光路上に固定して配置した固定焦点距離光学系と前記監視手段の光路外に配置した可変焦点距離光学系とから構成したことを特徴とするレーザ加工装置。

IPC (3件)：

B23K 26/04 ,  B23K 26/06 ,  G02B 27/00

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-241686
  
• 特開平4-049680
  
• レーザ加工装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-235949   出願人：浜松ホトニクス株式会社