特許
J-GLOBAL ID:200903042737410773

含窒素炭素系多孔体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 長谷川 芳樹 ,  塩田 辰也 ,  寺崎 史朗 ,  長濱 範明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-335519
公開番号(公開出願番号):特開2004-168587
出願日: 2002年11月19日
公開日(公表日): 2004年06月17日
要約:
【課題】優れた吸着性を有する含窒素炭素系多孔体及びその製造方法を提供すること。【解決手段】炭素原子及び窒素原子により骨格が形成されている含窒素炭素系材料からなる多孔体であって、比表面積が600m2/g以上であり、平均細孔径が1〜5nmであり、かつ、窒素原子と炭素原子との原子比(N/C)が0.08〜0.3であること、を特徴とする含窒素炭素系多孔体。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
炭素原子及び窒素原子により骨格が形成されている含窒素炭素系材料からなる多孔体であって、 比表面積が600m2/g以上であり、平均細孔径が1〜5nmであり、かつ、窒素原子と炭素原子との原子比(N/C)が0.08〜0.3であること、を特徴とする含窒素炭素系多孔体。
IPC (8件):
C01B31/02 ,  B01J20/20 ,  B01J20/28 ,  B01J32/00 ,  B01J35/04 ,  B01J35/10 ,  C02F1/28 ,  C23C16/01
FI (8件):
C01B31/02 101Z ,  B01J20/20 D ,  B01J20/28 Z ,  B01J32/00 ,  B01J35/04 D ,  B01J35/10 301Z ,  C02F1/28 D ,  C23C16/01
Fターム (63件):
4D024AA04 ,  4D024AB16 ,  4D024BA02 ,  4D024BB01 ,  4G066AA05B ,  4G066AA10D ,  4G066AB09A ,  4G066AB11A ,  4G066AB13A ,  4G066BA23 ,  4G066BA26 ,  4G066BA38 ,  4G066CA45 ,  4G066DA02 ,  4G066DA08 ,  4G066FA23 ,  4G066FA38 ,  4G066FA40 ,  4G069AA01 ,  4G069AA08 ,  4G069BA02C ,  4G069BB01A ,  4G069BB01B ,  4G069BD04A ,  4G069BD04B ,  4G069BD06A ,  4G069BD06B ,  4G069BE13C ,  4G069BE38C ,  4G069DA05 ,  4G069EC04X ,  4G069EC04Y ,  4G069EC05X ,  4G069EC05Y ,  4G069EC13X ,  4G069EC14X ,  4G069EC14Y ,  4G069FB03 ,  4G069FB34 ,  4G069FB49 ,  4G069FC02 ,  4G069FC08 ,  4G146AA15 ,  4G146AC05A ,  4G146AC05B ,  4G146AC06A ,  4G146AC06B ,  4G146AC08A ,  4G146AC08B ,  4G146AC09A ,  4G146AC09B ,  4G146AC10A ,  4G146AC28B ,  4G146AC30A ,  4G146AD31 ,  4G146AD35 ,  4G146BA11 ,  4G146BC03 ,  4K030AA09 ,  4K030BA27 ,  4K030BB00 ,  4K030FA10 ,  4K030LA11
引用特許:
審査官引用 (1件)

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