特許
J-GLOBAL ID:200903042861825183

金属層の電解析出のための方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伊藤 武久 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-519399
公開番号(公開出願番号):特表2000-500529
出願日: 1996年11月21日
公開日(公表日): 2000年01月18日
要約:
【要約】本発明は金属層の、特に一様な層厚を備えた所定の物理機械的特性及び光学的特性の銅層の電解析出のための方法に関する。溶解性陽極を用い直流を使用する公知の方法によれば、複雑な形状の被加工物上には不均一な金属層分布だけが達成可能である。パルス電流又はパルス電圧法を使用して、被加工物表面の種々の個所で層が異なる厚さとなる問題が回避される。しかしながら、それによって陽極の分解による析出プロセス中の幾何学的比率が連続的に変化するという別の問題は解決されない。これは不溶性陽極の使用によって回避される。陽極の十分な安定性と被加工物表面上の金属が高い電流密度で析出する個所ですら層の高い光沢性とを保証するために、析出溶液に電気化学的に可逆な酸化還元系の化合物を添加することが必要である。
請求項(抜粋):
一様な層厚を備えた金属層を、特に所定の物理機械的特性と光学的特性の、特に高い電流密度の個所でも高い破断伸びと一様な光沢性を備えた銅層を、パルス電流乃至パルス電圧法を用いて、- 陰極として複雑に形成された被加工物上に、- 寸法安定な不溶性陽極を使用して、- 析出されるべき金属のイオン、物理機械的特性の制御のための添加化合物、並びに少なくとも1種の電気化学的に可逆的であってその酸化形状によって析出すべき金属のイオンを対応する金属部分の分解によって形成するような酸化還元系の化合物を含有する析出溶液から電解的に析出するための方法。
IPC (2件):
C25D 5/18 ,  C25D 3/38 101
FI (2件):
C25D 5/18 ,  C25D 3/38 101
引用特許:
審査官引用 (15件)
  • 特開昭63-297590
  • 特公平1-058277
  • 特公昭62-056240
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