特許

J-GLOBAL ID：200903042869232084

半導体ウエハーの洗浄・乾燥装置

発明者： 上代 和男 ,  塩見 和彦
出願人/特許権者： ローム株式会社
代理人 (1件)： 石井 暁夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-000092
公開番号（公開出願番号）：特開平11-195635
出願日： 1998年01月05日
公開日（公表日）： 1999年07月21日
要約：

【要約】【課題】 半導体ウエハー3の表面を、カバー容器1の内において回転しながら噴出ノズル5から洗浄水を散布することで洗浄したのち乾燥する場合に、前記半導体ウエハーの表面に乾燥染みが発生することを回避する。【手段】 前記の洗浄に相前後して、前記半導体ウエハー3の表面に、ブロー管7から窒素ガス等の不活性ガスをブローする。

請求項（抜粋）：

上面を開放したカバー容器内に、回転する縦軸を、当該カバー容器の底板を貫通して挿入し、この縦軸の上端に半導体ウエハーの載置部を設け、この半導体ウエハー載置部の上方に、前記半導体ウエハーの表面に対する洗浄水の噴出ノズルを配設して成る洗浄・乾燥装置において、前記半導体ウエハー載置部の上方に、前記半導体ウエハーの表面に対する窒素ガス等の不活性ガスの噴出ノズルを配設したことを特徴とする半導体ウエハーの洗浄・乾燥装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 643

FI (3件)：

H01L 21/304 651 L ,  H01L 21/304 651 B ,  H01L 21/304 643 A

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 基板の洗浄処理方法並びに洗浄処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-190059   出願人：大日本スクリーン製造株式会社