特許
J-GLOBAL ID：200903042877262227

酸化チタン膜形成用加水分解ゾルおよび光触媒構造体

発明者：
古賀 正太郎

古賀 正太郎 について


出願人/特許権者：
エヌオーケー株式会社

エヌオーケー株式会社 について


代理人 (1件)： 佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-274081
公開番号（公開出願番号）：特開2000-103621
出願日： 1998年09月28日
公開日（公表日）： 2000年04月11日
要約：
【要約】【課題】特に、水処理等の液相における有機物の分解処理を効率的に行うことのできる酸化チタン光触媒構造体の製造方法及び酸化チタン膜形成用加水分解ゾルを提供する。【解決手段】アルコキシチタンの加水分解生成物およびポリビニルピロリドンを含有する酸化チタン膜形成用加水分解ゾル、及び該酸化チタン膜形成用加水分解ゾルを基体表面に塗布する工程と、該塗布面を加熱する工程を有する、酸化チタン光触媒構造体の製造方法。
請求項（抜粋）：
アルコキシチタンの加水分解生成物およびポリビニルピロリドンを含有する、酸化チタン膜形成用加水分解ゾル。
IPC (6件)：
C01G 23/053 ,  B01J 13/00 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  C09D139/06 ,  C09D185/00
FI (6件)：
C01G 23/053 ,  B01J 13/00 C ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J ,  C09D139/06 ,  C09D185/00
Fターム (54件)：
4G047CA02 ,  4G047CA10 ,  4G047CB06 ,  4G047CC03 ,  4G047CD07 ,  4G065AA06 ,  4G065AB01Y ,  4G065AB02Y ,  4G065AB03X ,  4G065AB03Y ,  4G065AB16Y ,  4G065AB17Y ,  4G065AB30Y ,  4G065BA07 ,  4G065BB07 ,  4G065CA13 ,  4G065DA04 ,  4G065EA01 ,  4G065EA10 ,  4G065FA01 ,  4G069AA01 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069AA09 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA14B ,  4G069BA21C ,  4G069BA22C ,  4G069BA37 ,  4G069BA48A ,  4G069BA48C ,  4G069BC50C ,  4G069BE06C ,  4G069BE19C ,  4G069BE38C ,  4G069CA01 ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069EA08 ,  4G069EB15Y ,  4G069EC22X ,  4G069EC22Y ,  4G069FA01 ,  4G069FA03 ,  4G069FB23 ,  4G069FB30 ,  4G069FB57 ,  4G069FC02 ,  4G069FC04 ,  4G069FC08 ,  4J038EA011 ,  4J038HA216 ,  4J038KA04
引用特許：
審査官引用 (1件)
引用文献：
審査官引用 (1件)

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