特許
J-GLOBAL ID:200903042879498090

アニオン性のヒドロキシアルキルエーテル界面活性剤とカチオン性ポリマーを含有する化粧品組成物及びその用途

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 園田 吉隆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-038419
公開番号(公開出願番号):特開2000-247846
出願日: 2000年02月16日
公開日(公表日): 2000年09月12日
要約:
【要約】【課題】 毛髪のもつれのほぐれ易さ、滑らかさ及び柔軟性に関し、改善された化粧品特性を有する洗浄用化粧品組成物を提供する。【解決手段】 化粧品的に許容可能な媒体中に、カチオン電荷密度が2meq/g以上の少なくとも1つの非セルロース性カチオン性ポリマーと、少なくとも1つの2-ヒドロキシアルキルエーテルカルボキシル型のアニオン性界面活性剤、又はそれらの塩類を含有せしめる。
請求項(抜粋):
化粧品的に許容可能な媒体中に、カチオン電荷密度が2meq/g以上の少なくとも1つの非セルロース性カチオン性ポリマーと、少なくとも1つの2-ヒドロキシアルキルカルボキシル型のアニオン性界面活性剤、及びそれらの塩類を含有せしめてなることを特徴とする洗浄用化粧品組成物。
IPC (2件):
A61K 7/075 ,  A61K 7/50
FI (2件):
A61K 7/075 ,  A61K 7/50
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • シャンプー組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-209694   出願人:ライオン株式会社
  • 毛髪洗浄組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-353603   出願人:ライオン株式会社
  • 洗浄剤組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-111050   出願人:花王株式会社
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