特許
J-GLOBAL ID:200903042900095694
フォトリソグラフィに使用するための極紫外線を生成するための方法と装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
真田 雄造 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-532879
公開番号(公開出願番号):特表2001-511311
出願日: 1997年12月23日
公開日(公表日): 2001年08月07日
要約:
【要約】超音速でガスを流出させるためのノズル、放射エネルギービームを流出ガス内に導き、そこから極紫外線の発出を刺激するための供給源及び、ガスの実質的部分を捕捉し、そのためそれによって引き起こされる汚染を緩和するための拡散器を含んで成る、極紫外線を生成する方法及びその装置。このように生成された極紫外線は、集積回路製造などのためのフォトリソグラフィで使用するのに適している。
請求項(抜粋):
極紫外線を生成するための方法において、 a) 超音速でガスを流出させる段階; b) 流出ガス内に放射エネルギービームを導いて、そこからの極紫外線の発出を刺激する段階; c) ガスの実質的部分を捕捉して、それにより引き起こされる汚染を緩和する段階;を含んで成る方法。
IPC (6件):
H01S 3/03
, G03F 7/20 501
, G21G 4/00
, G21K 5/00
, H01L 21/027
, H01S 3/22
FI (6件):
G03F 7/20 501
, G21G 4/00
, G21K 5/00 Z
, H01S 3/03 Z
, H01S 3/22 Z
, H01L 21/30 531 S
引用特許:
審査官引用 (3件)
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希ガスエキシマを生成する方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-070429
出願人:ウシオ電機株式会社
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特開昭61-228690
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特開昭54-071596
引用文献:
審査官引用 (1件)
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レーザの基礎と応用, 19870630, 143-147頁
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