特許
J-GLOBAL ID：200903042911283573

光学基板及びその製造方法並びに表示装置

発明者：
西川 尚男

西川 尚男 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 井上 一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-279438
公開番号（公開出願番号）：特開2000-089003
出願日： 1998年09月14日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：
【要約】【課題】 厚みの制御を容易に行える光学基板の製造方法及びその方法により製造される光学基板並びに表示装置を提供することにある。【解決手段】 凹状の曲面部12が形成された原盤10と、基板28と、を用意する第1工程と、原盤10における曲面部12が形成された面と基板28とを、光透過性層前駆体26を介して密着させる第2工程と、光透過性層前駆体26を固化して光透過性層30を形成し、原盤10を、光透過性層30から剥離する第3工程と、を含み、第2工程で、原盤10と基板28との間に少なくとも一つのスペーサ14を介在させ、スペーサ14によって、原盤10と基板28との間隔を制御する。
請求項（抜粋）：
凹凸パターンが形成された原盤と、基板と、を用意する第1工程と、前記原盤における前記凹凸パターンを有する面と前記基板とを、光透過性層前駆体を介して密着させる第2工程と、前記光透過性層前駆体を固化して光透過性層を形成し、前記原盤を、前記光透過性層から剥離する第3工程と、を含み、前記第2工程で、前記原盤と前記基板との間に少なくとも一つのスペーサを介在させ、前記スペーサによって、前記原盤と基板との間隔を制御する光学基板の製造方法。
IPC (4件)：
G02B 3/00 ,  B29C 41/12 ,  G02F 1/1333 500 ,  B29L 11:00
FI (3件)：
G02B 3/00 A ,  B29C 41/12 ,  G02F 1/1333 500
Fターム (34件)：
2H090HA04 ,  2H090HA07 ,  2H090HB08X ,  2H090HB13X ,  2H090HC01 ,  2H090HC10 ,  2H090HD06 ,  2H090JA02 ,  2H090JA03 ,  2H090JA05 ,  2H090JB12 ,  2H090LA12 ,  2H090LA15 ,  4F205AA43 ,  4F205AA44 ,  4F205AD10 ,  4F205AD24 ,  4F205AD34 ,  4F205AF01 ,  4F205AH33 ,  4F205AH73 ,  4F205AR07 ,  4F205GA07 ,  4F205GB01 ,  4F205GB29 ,  4F205GC06 ,  4F205GE01 ,  4F205GF01 ,  4F205GF06 ,  4F205GF23 ,  4F205GF24 ,  4F205GN07 ,  4F205GN28 ,  4F205GN29
引用特許：
審査官引用 (6件)
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