特許
J-GLOBAL ID：200903043009076731
貫通孔を有するシートの製造方法とミクロン及びサブミクロンフィルターの製造におけるその使用
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
佐藤 正年
, 佐藤 年哉
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-557702
公開番号（公開出願番号）：特表2005-528975
出願日： 2003年01月07日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：
本発明は貫通孔を有するシートの製造方法に関する。本発明の方法は、リソグラフィー操作によるエッチングに適した厚さ5μm〜数十μmのシートを準備する工程、マスク材料のエッチング速度VMに対するシート材料のエッチング速度VFの比として定義されるエッチング選択性Sが少なくとも5であるマスクを前記シートの表面に形成する工程、感光性樹脂の層を前記マスク上に形成する工程、形成すべき複数の孔の形状に合わせてフォトリソグラフィーにより前記樹脂の層に複数の貫通孔を形成する工程、前記樹脂の層に形成された貫通孔を介して前記マスクまでエッチングする工程、及び前記マスクの貫通孔から前記シートまで非等方的にエッチングすることにより孔径に対する孔の深さの比として定義されるアスペクト比が5よりも大きい複数の孔をシートに形成する工程からなる。本発明はミクロン及びサブミクロンフィルターの製造に用いるのに好適である。
請求項（抜粋）：
(A)リソグラフィー操作によるエッチングに適した厚さ5μm〜数十μmのシートを準備する工程、
(B)マスク材料のエッチング速度VMに対するシート材料のエッチング速度VFの比として定義されるエッチング選択性Sが少なくとも5であるマスクを前記シートの表面に形成する工程、
(C)感光性樹脂の層を前記マスク上に形成する工程、
(D)形成すべき複数の孔の形状に合わせてフォトリソグラフィーにより前記樹脂の層に複数の貫通孔を形成する工程、
(E)前記樹脂の層に形成された貫通孔を介して前記マスクまでエッチングする工程、及び
(F)前記マスクの貫通孔から前記シートまで非等方的にエッチングすることにより孔径に対する孔の深さの比として定義されるアスペクト比が5よりも大きい複数の孔をシートに形成する工程、
を備えたことを特徴とする、貫通孔を有するシートの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B01D67/00 500
, B01D69/06
4D006GA07
, 4D006MA03
, 4D006MA22
, 4D006MA27
, 4D006MB11
, 4D006MB15
, 4D006MC02X
, 4D006NA33
, 4D006PB08
, 4D006PB17
, 4D006PC11
, 4D006PC42
審査官引用 (2件)
-
特表平7-501988
-
水素透過膜の接合方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平10-103697
出願人：東京瓦斯株式会社
前のページに戻る
