シリカエアロゲル膜及びその製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高石橘馬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-125593
公開番号（公開出願番号）：特開2006-297329
出願日： 2005年04月22日
公開日（公表日）： 2006年11月02日
要約：

【課題】低屈折率であると共に、優れた靭性及び撥水性を有し、反射防止膜に好適なシリカエアロゲル膜及びその製造方法を提供する。【解決手段】不飽和置換基を有するアルコキシシランの加水分解重合により生成した湿潤ゲルを有機修飾し、得られた有機修飾シリカからなる層を形成し、乾燥及び焼成した後、前記有機修飾シリカからなる層に紫外線照射するシリカエアロゲル膜の製造方法、及び重合した有機基からなる修飾部を有するシリカエアロゲル膜。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

紫外線重合性の不飽和置換基を有するアルコキシシランの加水分解重合により生成した湿潤ゲルを有機修飾し、得られた有機修飾シリカからなる層を形成し、前記有機修飾シリカからなる層に紫外線照射し、焼成することを特徴とするシリカエアロゲル膜の製造方法。

IPC (6件)：

B05D 7/24 , G02B 1/11 , B32B 9/00 , C09D 183/00 , C09D 183/07 , C03C 17/30

FI (6件)：

B05D7/24 302Y , G02B1/10 A , B32B9/00 A , C09D183/00 , C09D183/07 , C03C17/30 A

Fターム (41件)：

2K009AA02 , 2K009AA15 , 2K009BB02 , 2K009CC09 , 2K009CC21 , 2K009CC42 , 2K009DD02 , 2K009DD05 , 4D075AB01 , 4D075BB13X , 4D075BB26Z , 4D075BB46Z , 4D075BB93Z , 4D075CA03 , 4D075CA36 , 4D075CB02 , 4D075DB13 , 4D075EB43 , 4D075EC30 , 4D075EC37 , 4D075EC45 , 4D075EC60 , 4F100AA20A , 4F100AT00B , 4F100BA02 , 4F100EH462 , 4F100EJ423 , 4F100EJ543 , 4F100GB41 , 4F100JB06 , 4F100JK08 , 4F100JM10A , 4F100JN06 , 4G059AA01 , 4G059AC04 , 4G059AC22 , 4G059FA05 , 4G059FA22 , 4G059FB06 , 4J038AA011 , 4J038HA441

引用特許：

出願人引用 (1件)

米国特許5,948,482号

審査官引用 (7件)

反射防止膜、偏光板、及び画像表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-297159 出願人：富士写真フイルム株式会社
光学積層フィルム
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-187055 出願人：日本ゼオン株式会社
特許第6984483号

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