特許
J-GLOBAL ID:200903043040503460

像加熱装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 丸島 儀一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-176119
公開番号(公開出願番号):特開平9-026715
出願日: 1995年07月12日
公開日(公表日): 1997年01月28日
要約:
【要約】【課題】 磁気誘導により回転体を加熱し像加熱を行なう像加熱装置において、ニップ部における温度を良好にする。【解決手段】 磁束発生コイル201が発生する交番磁束により昇温せしめられる回転加熱部材1の被加熱領域がニップ幅Nより大きい。
請求項(抜粋):
抵抗材と被覆層とからなる回転加熱部材と、これとニップを形成する回転加圧部材と、これらに近接した磁束発生コイルとを有する像加熱装置において、上記磁束発生コイルが発生する交番磁束により昇温せしめられる上記回転加熱部材の被加熱領域がニップ幅より大きいことを特徴とする像加熱装置。
引用特許:
出願人引用 (5件)
  • 像加熱装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-259972   出願人:キヤノン株式会社
  • 加熱装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-255799   出願人:キヤノン株式会社
  • 加熱装置、画像形成装置、及び加熱体
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-125041   出願人:キヤノン株式会社
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審査官引用 (4件)
  • 像加熱装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-259972   出願人:キヤノン株式会社
  • 加熱装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-255799   出願人:キヤノン株式会社
  • 加熱装置、画像形成装置、及び加熱体
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-125041   出願人:キヤノン株式会社
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