特許

J-GLOBAL ID：200903043042497947

光学装置、光学装置の製造方法および電子機器。

発明者： 北林 厚史 ,  花岡 英孝 ,  林 寛二
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (2件)： 上柳 雅誉 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-303652
公開番号（公開出願番号）：特開2008-123738
出願日： 2006年11月09日
公開日（公表日）： 2008年05月29日
要約：

【課題】貫通孔に充填する液体材料の濡れ広がり方を均一化する。【解決手段】基板10の上に、画素開口部50R,50G,50Bを画定する隔壁層13を形成する。次に、隔壁層13の表面に、隔壁層13の領域13rを覆う無機層14rを形成するとともに、無機層14rよりも厚みが薄い無機層であって、隔壁層13の領域13gを覆う無機層14gを形成する。次に、隔壁層13および無機層14r,14gが形成された基板10に対してフッ素プラズマ処理を施すことにより無機層14r,14gを除去するとともに、各領域13r,13g,13bを撥水化する。無機層14の有無および厚みを異ならせることにより、各領域13r,13g,13bの撥水性を相違させる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板の上に、有機材料で、複数の貫通孔を画定する隔壁層を形成する第1工程と、 前記隔壁層の上に、無機材料で、前記隔壁層の上面の一部を覆う無機層を形成する第2工程と、 前記隔壁層および前記無機層が形成された前記基板に対してフッ素プラズマ処理を施すことにより前記無機層を除去する第3工程と、 を有する光学装置の製造方法。

IPC (7件)：

H05B 33/10 ,  G09F 9/00 ,  G09F 9/30 ,  H01L 27/32 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/22 ,  H05B 33/12

FI (6件)：

H05B33/10 ,  G09F9/00 338 ,  G09F9/30 365Z ,  H05B33/14 A ,  H05B33/22 Z ,  H05B33/12 B

Fターム (19件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC33 ,  3K107CC45 ,  3K107DD89 ,  3K107DD95 ,  3K107DD96 ,  3K107GG24 ,  3K107GG28 ,  5C094AA55 ,  5C094BA27 ,  5C094FB02 ,  5C094GB10 ,  5C094HA08 ,  5G435AA06 ,  5G435BB05 ,  5G435KK05 ,  5G435LL07 ,  5G435LL08

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 薄膜パターニング用基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-076979   出願人：セイコーエプソン株式会社