特許
J-GLOBAL ID：200903043050295539

足温浴器

発明者：
黒河 圭子

黒河 圭子 について

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茂木 聖行

茂木 聖行 について

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鈴木 大輔

鈴木 大輔 について

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津久井 利光

津久井 利光 について


出願人/特許権者：
三洋電機株式会社

三洋電機株式会社 について


代理人 (1件)： 雨笠 敬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-381673
公開番号（公開出願番号）：特開2003-180791
出願日： 2001年12月14日
公開日（公表日）： 2003年07月02日
要約：
【要約】【課題】 足浴槽内における雑菌の繁殖を防止若しくは抑制し、衛生的な足温浴器を提供する。【解決手段】 足温浴器1は、足浴槽6内に足浴用の湯を貯溜して成るものであって、足浴槽6内の水を電気分解することにより次亜塩素酸を含む電解水を生成する電極から成る電解水生成手段と、この電解水生成手段を制御するマイクロコンピュータから成る制御手段とを備え、この制御手段は、電解水生成手段により間欠的に電解水の生成を行うことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
足浴槽内に足浴用の湯を貯溜して成る足温浴器において、前記足浴槽内の水を電気分解することにより次亜塩素酸を含む電解水を生成する電解水生成手段と、該電解水生成手段を制御する制御手段とを備え、該制御手段は、前記電解水生成手段により間欠的に電解水の生成を行うことを特徴とする足温浴器。
IPC (4件)：
A61H 35/00 ,  A61H 23/00 501 ,  A61H 33/02 ,  C02F 1/46
FI (4件)：
A61H 35/00 F ,  A61H 23/00 501 ,  A61H 33/02 D ,  C02F 1/46 A
Fターム (33件)：
4C074LL01 ,  4C074MM10 ,  4C074NN04 ,  4C074NN10 ,  4C074QQ02 ,  4C074QQ23 ,  4C074QQ24 ,  4C074QQ31 ,  4C074RR04 ,  4C094AA02 ,  4C094BB01 ,  4C094BB15 ,  4C094DD02 ,  4C094DD14 ,  4C094DD40 ,  4C094EE11 ,  4C094EE22 ,  4C094FF02 ,  4C094FF09 ,  4C094FF16 ,  4C094GG01 ,  4C094GG11 ,  4C094GG17 ,  4D061DA03 ,  4D061DB10 ,  4D061EA02 ,  4D061EB02 ,  4D061EB04 ,  4D061EB37 ,  4D061EB39 ,  4D061GA21 ,  4D061GA30 ,  4D061GC15
引用特許：
審査官引用 (11件)
  • 足洗浄器
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-131178   出願人：東陶機器株式会社
  • 貯留式給水装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-186520   出願人：日立テクノエンジニアリング株式会社, 九州日立マクセル株式会社
  • 風呂水殺菌装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-191182   出願人：松下電器産業株式会社
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