特許

J-GLOBAL ID：200903043060959400

透明バリアフィルムの製造方法

発明者： 市村 公二 ,  駒田 実
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (2件)： 米田 潤三 ,  皿田 秀夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-045136
公開番号（公開出願番号）：特開2007-204853
出願日： 2007年02月26日
公開日（公表日）： 2007年08月16日
要約：

【課題】 優れた透明性と高いバリア性を有し、耐衝撃性にも優れた透明バリアフィルムの製造方法を提供する。【解決手段】 化学気相蒸着法(CVD法)による酸化珪素を主体とする薄膜の成膜条件を、波長633nmにおける屈折率が1.45〜1.55の範囲内となり、かつ、赤外分光法による分光スペクトルでの珪素原子と酸素原子からなる伸縮振動吸収(Si-O-Si伸縮モード)のピークが1060〜1090cm-1の範囲内となるように設定し、この成膜条件で基材フィルム上に化学気相蒸着法(CVD法)により酸化珪素を主体とする薄膜を形成してバリア層とする。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

基材フィルムと、該基材フィルムの少なくとも一方の面に設けられたバリア層とを少なくとも有する透明バリアフィルムの製造方法において、 酸化珪素を主体とする薄膜を形成する化学気相蒸着法(CVD法)の成膜条件を、形成した薄膜の波長633nmにおける屈折率が1.45〜1.55の範囲内となり、かつ、形成した薄膜の赤外分光法により測定した分光スペクトルでの1000〜1100cm-1の範囲に最も大きな吸収を示すピークとして現れる珪素原子と酸素原子からなる伸縮振動吸収(Si-O-Si伸縮モード)のピークの位置が1060〜1090cm-1の範囲内となるように設定し、該成膜条件で化学気相蒸着法(CVD法)により酸化珪素を主体とする薄膜を形成してバリア層とすることを特徴とする透明バリアフィルムの製造方法。

IPC (2件)：

C23C 16/42 ,  B32B 9/00

FI (2件)：

C23C16/42 ,  B32B9/00 A

Fターム (22件)：

4F100AA20B ,  4F100AA20K ,  4F100AK01A ,  4F100AK07A ,  4F100AK42A ,  4F100AK46A ,  4F100EH66B ,  4F100EJ38A ,  4F100GB15 ,  4F100JD01 ,  4F100JM02B ,  4F100JN01 ,  4F100YY00B ,  4K030AA06 ,  4K030AA14 ,  4K030BA44 ,  4K030CA07 ,  4K030CA17 ,  4K030FA03 ,  4K030GA14 ,  4K030JA20 ,  4K030LA24

引用特許：

審査官引用 (2件)

• プラスチックスシートからなる包装材料にガス遮断性に優れた珪素酸化物薄膜を被覆する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-130941   出願人：岸本昭
• ガスバリア性フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-211288   出願人：東レ株式会社