特許

J-GLOBAL ID：200903043064668265

高周波熱プラズマ流の均質化方法

発明者： 石垣 隆正
出願人/特許権者： 独立行政法人物質・材料研究機構
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-379733
公開番号（公開出願番号）：特開2004-213942
出願日： 2002年12月27日
公開日（公表日）： 2004年07月29日
要約：

【課題】高周波熱プラズマ流の均質化、特に、半径方向の流速分布、温度分布の平坦化を図る。【解決手段】シースガス(1)、セントラルガス(2)及び原料搬送ガス(3)の3系統のガスを供給し、圧力100Torr〜760Torrで発生させ、3000°Cより高い温度を有する高周波誘導熱プラズマ(4)のプラズマ尾炎部に、水平面上で半径方向に対し45°以上の角度で旋回流(5)を供給し、かつ旋回流のガス供給量をシースガス、セントラルガス及び原料搬送ガスの3系統のガス供給量の総計の50%以下とし、旋回流の向きを水平面から下方向の傾角30°以下とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

シースガス、セントラルガス及び原料搬送ガスの3系統のガスを供給し、圧力100Torr〜760Torrで発生させ、3000°Cより高い温度を有する高周波誘導熱プラズマのプラズマ尾炎部に、水平面上で半径方向に対し45°以上の角度で旋回流を供給し、かつ旋回流のガス供給量をシースガス、セントラルガス及び原料搬送ガスの3系統のガス供給量の総計の50%以下とし、旋回流の向きを水平面から下方向の傾角30°以下とすることを特徴とする高周波熱プラズマ流の均質化方法。

IPC (3件)：

H05H1/30 ,  B01J19/08 ,  H05H1/42

FI (3件)：

H05H1/30 ,  B01J19/08 E ,  H05H1/42

Fターム (7件)：

4G075AA03 ,  4G075AA27 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EE02 ,  4G075FA12

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-085007
  
• 高周波プラズマによる球状化粒子の製造方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-178352   出願人：月島機械株式会社, 富士電波工機株式会社
• 特開昭62-041704