反射型フォトマスク及びそれを用いた露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：曾我道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-136991
公開番号（公開出願番号）：特開平5-333527
出願日： 1992年05月28日
公開日（公表日）： 1993年12月17日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】帯電による電子ビームの軌道の歪みを防止することができる反射型フォトマスクを提供する。【構成】反射型フォトマスク29は、基板と、基板の表面上に形成されると共に交互に間隔を隔てて配置されることにより繰り返しパターンを構成し且つ互いに位相の異なる反射光を生じさせる第1及び第2の反射膜とを備えたもの。

請求項（抜粋）：

基板と、前記基板の表面上に形成されると共に交互に間隔を隔てて配置されることにより繰り返しパターンを構成し且つ互いに位相の異なる反射光を生じさせる第1及び第2の反射膜とを備えたことを特徴とする反射型フォトマスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 301 P , H01L 21/30 311 L

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-118914
特開平1-145811
特開昭64-037837

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