特許
J-GLOBAL ID:200903043097483457
スペーサー形成用感放射線性樹脂組成物、スペーサーとその形成方法および液晶表示素子
発明者:
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
福沢 俊明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-015158
公開番号(公開出願番号):特開2005-208360
出願日: 2004年01月23日
公開日(公表日): 2005年08月04日
要約:
【課題】350nm未満の波長を実質的に含まない放射線による露光でも、高解像度、高感度であり、かつパターン形状、圧縮強度、ラビング耐性、透明基板との密着性等の諸性能に優れたスペーサーを容易に形成することができるスペーサー用感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】スペーサー用感放射線性樹脂組成物は、〔A〕(a1)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物と(a2)エポキシ基含有不飽和化合物と(a3)他の不飽和化合物との共重合体、〔B〕重合性不飽和化合物、〔C〕ビイミダゾール系化合物、〔D〕カルボニル基を有する感放射線性重合開始剤、並びに〔E〕ジアルキルアミノ基を有する化合物および/または〔F〕チオール系化合物を含有する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
〔A〕(a1)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物と(a2)エポキシ基含有不飽和化合物と(a3)他の不飽和化合物との共重合体、
〔B〕重合性不飽和化合物、
〔C〕ビイミダゾール系化合物、
〔D〕カルボニル基を有する感放射線性重合開始剤、並びに
〔E〕ジアルキルアミノ基を有する化合物および/または〔F〕チオール系化合物
を含有することを特徴とするスペーサー形成用感放射線性樹脂組成物。
IPC (5件):
G02F1/1339
, C08F265/00
, C08G59/40
, G03F7/027
, G03F7/028
FI (5件):
G02F1/1339 500
, C08F265/00
, C08G59/40
, G03F7/027 515
, G03F7/028
Fターム (44件):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA14
, 2H025AB13
, 2H025AB17
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC32
, 2H025BC42
, 2H025BC74
, 2H025BC85
, 2H025CA01
, 2H025CA27
, 2H025CA28
, 2H025CA30
, 2H025FA03
, 2H025FA17
, 2H025FA29
, 2H089LA06
, 2H089MA04X
, 2H089NA14
, 2H089PA06
, 2H089PA07
, 2H089QA12
, 2H089QA15
, 4J026AA17
, 4J026AA43
, 4J026AA45
, 4J026AA48
, 4J026BA28
, 4J026BA50
, 4J026BB01
, 4J026DA02
, 4J026DA12
, 4J026DB02
, 4J026DB11
, 4J026DB29
, 4J026FA04
, 4J026GA07
, 4J036AK11
, 4J036DC40
, 4J036EA04
, 4J036HA01
, 4J036JA15
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (8件)
全件表示
前のページに戻る