特許
J-GLOBAL ID:200903043114727594

熱処理炉の雰囲気制御方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 澤木 誠一 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-048598
公開番号(公開出願番号):特開平10-226871
出願日: 1997年02月18日
公開日(公表日): 1998年08月25日
要約:
【要約】【課題】 従来の熱処理炉の雰囲気制御方法及び装置においては、浸炭時間が長く、粒界酸化が増大する欠点があった。【解決手段】 本発明の熱処理炉の雰囲気制御方法及び装置においては、炉内に炭化水素系ガスと酸化性ガスとを供給しながら浸炭を行い炉内の残留CH4 、酸化性ガスの分圧及びCO分圧を測定し、これらの何れかの値に応じて上記各ガスの供給量を制御せしめる。
請求項(抜粋):
炉内に炭化水素系ガスと酸化性ガスとを供給しながら浸炭を行い、炉内のCO分圧が設定値に達したとき、上記酸化性ガスの供給を停止することを特徴とする熱処理炉の雰囲気制御方法。
IPC (2件):
C23C 8/20 ,  C21D 1/76
FI (2件):
C23C 8/20 ,  C21D 1/76 J
引用特許:
審査官引用 (5件)
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