特許

J-GLOBAL ID：200903043159773341

表面上への物質の付着

発明者： シヤルマ,サニテイ ,  アンナバジユーラ,ドウルガ ,  バシン,サニテイ ,  ナラング,サブハツシユ ,  ニガム,アズトツシユ
出願人/特許権者： エス・アール・アイ・インターナシヨナル
代理人 (1件)： 川口 義雄 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-511596
公開番号（公開出願番号）：特表2001-516805
出願日： 1998年09月10日
公開日（公表日）： 2001年10月02日
要約：

【要約】基体上に前駆物質を所望のパターンデ付着するステップと、基体上に適切なリガンドを付着するステップと、電子をリガンドから前駆物質に移すのに十分なエネルギーを供給し、それによって前駆物質を分解して沈殿物を形成するステップとを含む工程によって、基体(30)上に被覆(20)を付着する方法および装置(10)を提供する。好ましい実施形態の一態様では、前駆物質が金属塩、沈殿物が金属からなる。特に好ましい塩はカルボン酸塩、ハロゲン化物、硝酸塩および擬ハロゲン化物である。好ましい実施形態の他の態様では、リガンドはアミン、アミド、ホスフィン、スルフィド、または窒素、リン、硫黄または他のドナー原子を含む他のリガンドからなる。実質的な量の前駆物質または付着物を除去することなく所望のパターンを形成する。

請求項（抜粋）：

基体上に被覆を付着する方法であって、 基体上に前駆物質を所望のパターンで付着するステップと、 基体上にリガンドを付着するステップと、 電子をリガンドから前駆物質に移すのに十分なエネルギーを供給し、それによって前駆物質を分解して沈殿物を形成するステップからなる方法。

IPC (6件)：

C23C 18/16 ,  B05D 5/12 ,  C23C 18/14 ,  H05K 3/18 ,  B05D 3/06 ,  G03F 7/105 501

FI (6件)：

C23C 18/16 Z ,  B05D 5/12 ,  C23C 18/14 ,  H05K 3/18 Z ,  B05D 3/06 Z ,  G03F 7/105 501

Fターム (67件)：

2H025AA02 ,  2H025AB15 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BH04 ,  2H025CC09 ,  4D075AC22 ,  4D075AC25 ,  4D075AC45 ,  4D075BB37Z ,  4D075BB48Z ,  4D075CA22 ,  4K022AA02 ,  4K022AA03 ,  4K022AA05 ,  4K022AA12 ,  4K022AA13 ,  4K022AA33 ,  4K022AA34 ,  4K022AA36 ,  4K022AA42 ,  4K022AA43 ,  4K022BA01 ,  4K022BA03 ,  4K022BA06 ,  4K022BA08 ,  4K022BA17 ,  4K022BA18 ,  4K022BA20 ,  4K022BA21 ,  4K022BA22 ,  4K022BA25 ,  4K022BA28 ,  4K022BA31 ,  4K022BA32 ,  4K022BA33 ,  4K022BA34 ,  4K022BA35 ,  4K022CA17 ,  4K022CA18 ,  4K022CA19 ,  4K022CA20 ,  4K022CA21 ,  4K022CA23 ,  4K022DA01 ,  4K022DA06 ,  4K022DA08 ,  4K022DA09 ,  4K022DB02 ,  4K022DB04 ,  4K022DB08 ,  4K022DB29 ,  4K022EA01 ,  5E343BB22 ,  5E343BB23 ,  5E343BB24 ,  5E343BB25 ,  5E343BB34 ,  5E343BB35 ,  5E343BB45 ,  5E343BB47 ,  5E343BB48 ,  5E343BB52 ,  5E343BB71 ,  5E343DD02 ,  5E343DD80 ,  5E343GG08

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-099283
  
• 透明導電膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-066029   出願人：三菱マテリアル株式会社
• 特開平3-068777
  
• 特開平4-215855