特許
J-GLOBAL ID:200903043165710980
微細気孔が含まれたポリウレタン発泡体の製造方法及びそれから製造された研磨パッド
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
恩田 博宣
, 恩田 誠
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-553258
公開番号(公開出願番号):特表2006-502300
出願日: 2003年11月18日
公開日(公表日): 2006年01月19日
要約:
微細気孔含有ポリウレタン発泡体の製造方法及びそれから得られる研磨パッドを提供する。その方法は、(a)イソシアネート基含有化合物を含む第1成分と、活性水素基含有化合物を含む第2成分とのうち少なくとも一つに非イオン性界面活性剤を添加する段階と、(b)前記第1成分と第2成分との混合液に非反応性気体を加えながらその混合液を撹拌・混合する段階と、(c)前記混合液を一定流速で容器の外部に吐出する段階と、(d)吐出された混合液を金型に注入して所定形状に成形する段階とを含む。
請求項(抜粋):
(a)イソシアネート基含有化合物を含む第1成分と、活性水素基含有化合物を含む第2成分とのうち少なくとも一つに非イオン性界面活性剤を添加する段階と、
(b)前記第1成分と前記第2成分との混合液に非反応性気体を加えながらその混合液を撹拌・混合する段階と、
(c)前記混合液を一定流速で容器の外部に吐出する段階と、
(d)吐出された混合液を金型に注入して所定形状に成形する段階とを含むことを特徴とする微細気孔含有ポリウレタン発泡体の製造方法。
IPC (6件):
C08G 18/08
, B24B 37/00
, C08G 18/10
, C08K 7/22
, C08L 75/04
, H01L 21/304
FI (6件):
C08G18/08
, B24B37/00 C
, C08G18/10
, C08K7/22
, C08L75/04
, H01L21/304 622F
Fターム (63件):
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058CB02
, 3C058CB05
, 3C058DA12
, 3C058DA17
, 4J002CK021
, 4J002CK031
, 4J002CK041
, 4J002DE096
, 4J002DE146
, 4J002DE236
, 4J002DJ016
, 4J002DM006
, 4J002FA106
, 4J002GQ05
, 4J002GT00
, 4J034CA01
, 4J034CA04
, 4J034CA15
, 4J034CB03
, 4J034CB07
, 4J034CC01
, 4J034CC03
, 4J034CC08
, 4J034CC12
, 4J034CC32
, 4J034CC34
, 4J034CC45
, 4J034CC52
, 4J034CC61
, 4J034CC67
, 4J034CD08
, 4J034CD13
, 4J034CD15
, 4J034DA01
, 4J034DB04
, 4J034DB07
, 4J034DC50
, 4J034DF01
, 4J034DF02
, 4J034DG04
, 4J034DG06
, 4J034HA01
, 4J034HA07
, 4J034HC12
, 4J034HC17
, 4J034HC22
, 4J034HC46
, 4J034HC52
, 4J034HC61
, 4J034HC64
, 4J034HC67
, 4J034HC71
, 4J034HC73
, 4J034JA42
, 4J034MA17
, 4J034NA01
, 4J034NA08
, 4J034QC01
, 4J034QD03
, 4J034RA14
, 4J034RA19
引用特許:
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