特許
J-GLOBAL ID:200903043215501635
反射防止積層体およびその製造方法、ならびに光学機能性フィルタおよび光学表示装置
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-097848
公開番号(公開出願番号):特開2007-271958
出願日: 2006年03月31日
公開日(公表日): 2007年10月18日
要約:
【課題】基材に対し、蒸着薄膜より擦傷性が強く、一方でDMS薄膜より膜硬度が低く、かつ蒸着法より膜硬度が高い薄膜を、マグネトロン・スパッタ法により成膜し、輝点が非常に少ない反射防止積層体、該反射防止積層体を有する光学機能性フィルタおよび光学表示装置を提供するを目的とする。【解決手段】基材上に、反射防止層を有する反射防止積層体であって、 該反射防止層の物理膜厚が100nm以上であり、かつ反射防止積層体の押し込み硬度が、押し込み深さ100nmの押し込み試験に対し、11GPa以上〜15GPa以下であることを特徴とする反射防止積層体とする。【選択図】なし
請求項(抜粋):
基材上に、反射防止層を有する反射防止積層体であって、
該反射防止層の物理膜厚が100nm以上であり、かつ反射防止積層体の押し込み硬度が、押し込み深さ100nmの押し込み試験に対し、11GPa以上〜15GPa以下であることを特徴とする反射防止積層体。
IPC (4件):
G02B 1/11
, B32B 7/02
, G09F 9/00
, C23C 14/34
FI (4件):
G02B1/10 A
, B32B7/02 103
, G09F9/00 313
, C23C14/34 S
Fターム (48件):
2K009AA03
, 2K009CC03
, 2K009CC21
, 2K009DD03
, 2K009DD04
, 2K009DD09
, 4F100AA20
, 4F100AA21
, 4F100AJ04
, 4F100AR00B
, 4F100AR00C
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100BA03
, 4F100BA07
, 4F100BA26
, 4F100EH66
, 4F100GB41
, 4F100JK09
, 4F100JK12B
, 4F100JK12C
, 4F100JK14
, 4F100JN06B
, 4F100JN06C
, 4F100JN18B
, 4F100JN18C
, 4F100YY00B
, 4F100YY00C
, 4K029AA09
, 4K029AA11
, 4K029AA24
, 4K029AA25
, 4K029BA46
, 4K029BA48
, 4K029BB02
, 4K029BC07
, 4K029CA06
, 4K029DC16
, 4K029DC34
, 4K029DC39
, 5G435AA02
, 5G435AA14
, 5G435AA17
, 5G435BB02
, 5G435BB06
, 5G435BB12
, 5G435GG11
, 5G435HH03
引用特許:
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