特許

J-GLOBAL ID：200903043258862801

水素供給システムの反応装置及び水素供給システム

発明者： 梅岡 尚 ,  五藤 靖志 ,  深田 和宏
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-270398
公開番号（公開出願番号）：特開2005-022939
出願日： 2003年07月02日
公開日（公表日）： 2005年01月27日
要約：

【課題】 長期間にわたり、高効率、且つ安定して水素の発生を実施できる水素供給システムを提供する。【解決手段】 水素供給システムの反応装置50は、水素化誘導体30を供給するノズル53と、ノズル53から供給される液状の水素化誘導体30を加熱して気化させる気化器51と、気化した水素化誘導体30と接触して脱水素反応させて水素33を生成させる第1の触媒担持体52と、気化器51及び触媒担持体52を加熱する誘導加熱装置55とを備えている。誘導加熱装置55によって加熱させられた気化器51によって水素化誘導体30が気化し、気化した水素化誘導体30が第1の触媒担持体52と接触することによって水素化誘導体30を脱水素反応させて水素33を生成する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

水素供給体を脱水素反応させて水素を生成する水素供給システムの反応装置であって、 前記水素供給体を加熱して気化させる気化手段と、 前記気化手段により気化された前記水素供給体を脱水素反応させるための触媒を担持した第1の触媒担持体と、を備えたことを特徴とする水素供給システムの反応装置。

IPC (2件)：

C01B3/26 ,  H01M8/06

FI (2件)：

C01B3/26 ,  H01M8/06 G

Fターム (5件)：

4G140DA03 ,  4G140DB03 ,  4G140DB05 ,  5H027AA02 ,  5H027DD05

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 水素貯蔵・供給システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-069694   出願人：積水化学工業株式会社, 市川勝, 株式会社電制