レジスト下層膜材料ならびにパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：好宮幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-150350
公開番号（公開出願番号）：特開2004-354554
出願日： 2003年05月28日
公開日（公表日）： 2004年12月16日
要約：

【課題】多層レジストプロセス用、特には2層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、特に短波長の露光に対して、優れた反射防止膜として機能し、すなわち透明性が高く、最適なn値、k値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性に優れたレジスト下層膜材料、及びこれを用いてリソグラフィーにより基板にパターンを形成する方法を提供する。【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。【化24】【選択図】なし

請求項（抜粋）：

リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。

IPC (4件)：

G03F7/11 , G03F7/26 , G03F7/40 , H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/11 503 , G03F7/26 511 , G03F7/40 521 , H01L21/30 573

Fターム (24件)：

2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025DA34 , 2H025DA40 , 2H025FA03 , 2H025FA17 , 2H025FA41 , 2H096AA25 , 2H096BA09 , 2H096CA05 , 2H096CA06 , 2H096EA04 , 2H096GA08 , 2H096HA23 , 2H096JA04 , 2H096KA06 , 2H096KA19 , 5F046NA01 , 5F046NA17

引用特許：

審査官引用 (4件)

アルカリ現像型感光性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-233945 出願人：大日本インキ化学工業株式会社
樹脂の製造方法および樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-020666 出願人：日本石油株式会社
感光性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-082839 出願人：三井化学株式会社

全件表示

前のページに戻る