特許
J-GLOBAL ID：200903043281066699
フォトマスク用基板、フォトマスクブランク、及びフォトマスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-086919
公開番号（公開出願番号）：特開2005-300566
出願日： 2004年03月24日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：
【課題】 側面部からのパーティクルの発生を低減し、かつ側面部をハンドリングする際に滑り難い大型なフォトマスク用基板を得る。【解決手段】 表面及び裏面からなる主表面と、板厚方向に形成される端面Tと、前記端面Tと表面及び裏面との間に形成される面取り面Cとを有する、透光性のフォトマスク用基板において、 前記基板は、主表面のサイズが一辺Lが300ミリメートル以上であり、 前記端面T及び前記面取り面Cは、表面粗さ(Ra)が0.03〜0.3μmの粗面であることを特徴とするフォトマスク用基板。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
表面及び裏面からなる主表面と、板厚方向に形成される端面と、前記端面と表面及び裏面との間に形成される面取り面とを有する、透光性のフォトマスク用基板において、
前記基板は、主表面のサイズが一辺が300ミリメートル以上であり、 前記端面及び前記面取り面は、表面粗さ(Ra)が0.03〜0.3μmの粗面であることを特徴とするフォトマスク用基板。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/14 A
, B24B9/00 601B
2H095BC28
, 3C049AA03
, 3C049CA01
, 3C049CB01
