特許

J-GLOBAL ID：200903098732065879

情報記録媒体用基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法

発明者： 江田 伸二
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 安齋 嘉章
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-137847
公開番号（公開出願番号）：特開2003-006843
出願日： 2000年12月28日
公開日（公表日）： 2003年01月10日
要約：

【要約】【課題】 平滑性の高い情報記録媒体用基板の製造方法及びこれを用いた情報記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】 情報記録媒体用基板を製造する情報記録媒体用基板の製造方法において、研磨工程における研磨液は1μm以上の粒子を除去した水又は超純水と研磨剤とを含む。

請求項（抜粋）：

情報記録媒体用基板を製造する情報記録媒体用基板の製造方法において、研磨工程における研磨液は1μm以上の粒子を除去した水と研磨剤とを含む情報記録媒体用基板の製造方法。

IPC (6件)：

G11B 5/84 ,  B24B 1/00 ,  B24B 37/00 ,  B24B 57/02 ,  C09K 3/14 550 ,  G11B 7/26

FI (6件)：

G11B 5/84 A ,  B24B 1/00 D ,  B24B 37/00 H ,  B24B 57/02 ,  C09K 3/14 550 D ,  G11B 7/26

Fターム (17件)：

3C047FF08 ,  3C047GG15 ,  3C049AA07 ,  3C049AC04 ,  3C049CB01 ,  3C058AA07 ,  3C058CB02 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17 ,  5D112AA02 ,  5D112BA03 ,  5D112BA09 ,  5D112GA09 ,  5D112GA14 ,  5D121AA02 ,  5D121EE28 ,  5D121GG22

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 研磨用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-266511   出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
• 研磨用スラリー及びこれを用いた研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-151179   出願人：三菱マテリアル株式会社
• 特開平3-106984
  
• 磁気記録媒体及び磁気記録媒体用基板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-119504   出願人：花王株式会社
• 特開平3-106984