特許
J-GLOBAL ID:200903043318495625
遺伝子類導入方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (8件):
特許業務法人アルガ特許事務所
, 有賀 三幸
, 高野 登志雄
, 中嶋 俊夫
, 浅野 康隆
, 的場 ひろみ
, 村田 正樹
, 山本 博人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-408473
公開番号(公開出願番号):特開2005-168312
出願日: 2003年12月08日
公開日(公表日): 2005年06月30日
要約:
【課題】 標的細胞への遺伝子の効率的な導入法の提供。【解決手段】 標的細胞含有組成物又は生体に(A)遺伝子類とカチオン性物質とからなる正に荷電した複合体及び(B)ガス含有微小粒子を添加又は投与後、低周波超音波を照射することを特徴とする標的細胞への遺伝子類導入方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
標的細胞含有組成物又は生体に、(A)遺伝子類とカチオン性物質とからなる正に荷電した複合体及び(B)ガス含有微小粒子を添加又は投与後、低周波超音波を照射することを特徴とする標的細胞への遺伝子類導入方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (5件):
4B024AA20
, 4B024BA80
, 4B024CA02
, 4B024GA11
, 4B024HA20
引用特許:
引用文献:
審査官引用 (1件)
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Current Pharmaceutical Biotechnology, vol.4 (2003 Apr.) p.109-122
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