特許
J-GLOBAL ID：200903043336205928
陰極アーク放電を用いた薄膜蒸着装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-343165
公開番号（公開出願番号）：特開平10-280135
出願日： 1997年12月12日
公開日（公表日）： 1998年10月20日
要約：
【要約】【課題】 薄膜の蒸着効率を上昇させる陰極アーク放電を用いた薄膜蒸着装置を提供する。【解決手段】 陰極アーク放電により蒸着物質の荷電粒子が発生されるアーク蒸発部100と、荷電粒子をアーク蒸発部100から基板1に導く屈曲部を有するプラズマダクト200と、荷電粒子がアーク蒸発部100から基板1に向かうように磁場を発生させる磁場発生器310,330と、プラズマダクト200の屈曲部の凸部側に設けられて磁力線がプラズマダクト200に沿って分布されるように磁場発生器310,330の磁場と干渉する磁場を発生させる反射磁場源350とを含むことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
陰極アーク放電により蒸着物質の荷電粒子が発生されるアーク蒸発部と、前記荷電粒子を前記アーク蒸発部から基板に導く、屈曲部を有するプラズマダクトと、前記荷電粒子が前記アーク蒸発部から前記基板に向かうように磁場を発生させる磁場発生器と、前記プラズマダクトの屈曲部の凸部側に設けられて磁力線が該プラズマダクトに沿って分布されるように前記磁場発生器の磁場と干渉する磁場を発生させる反射磁場源とを含む陰極アーク放電を用いた薄膜蒸着装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/32 A
, H01L 21/203 Z
