特許
J-GLOBAL ID：200903043376969874

走査顕微鏡

発明者：
本田 和広

本田 和広 について


出願人/特許権者：
日本電子株式会社

日本電子株式会社 について


代理人 (1件)： 井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-369784
公開番号（公開出願番号）：特開2000-195457
出願日： 1998年12月25日
公開日（公表日）： 2000年07月14日
要約：
【要約】【課題】 凹凸の激しい試料であっても、視野の中で一様に鮮明な像を得ることができる走査顕微鏡を実現する。【解決手段】 試料2に照射される一次電子ビームEBの集束位置(焦点位置)は、焦点制御レンズ15のレンズ強度を可変焦点位置制御器16によって制御することにより変えることができる。このレンズ強度は、走査制御器8と同期して変化し、画像積算器9のフレームバッファ上で画像積算される1フレームごとに一定値に固定されている。各レンズ強度の際に得られた検出信号は各画素ごとに積算されることから、積算された信号に基づいて陰極線管10上に像を表示すれば、試料上に凹凸が顕著に存在していても、観察視野内で焦点のあった像を観察することができる。
請求項（抜粋）：
一次ビームを試料上で2次元的に走査する走査手段と、試料への一次ビームの照射によって得られた信号を検出する検出器と、試料表面の凹凸構造物の高さに応じて一次ビームの焦点位置を変化させる手段と、一次ビームの異なった焦点位置に基づく検出信号を積算処理して記憶する画像積算器と、画像積算器に記憶された信号に基づいて像を表示する表示手段とを備えた走査顕微鏡。
IPC (3件)：
H01J 37/21 ,  H01J 37/22 502 ,  H01L 21/66
FI (3件)：
H01J 37/21 B ,  H01J 37/22 502 G ,  H01L 21/66 J
Fターム (12件)：
4M106AA02 ,  4M106BA02 ,  4M106BA03 ,  4M106CA39 ,  4M106DB05 ,  4M106DB11 ,  4M106DB12 ,  4M106DJ23 ,  5C033DD03 ,  5C033DD09 ,  5C033DE06 ,  5C033MM05
引用特許：
出願人引用 (7件)
  • 走査形顕微鏡
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-186550   出願人：株式会社日立製作所
  • 特開平2-295042
  • 特開平4-303545
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審査官引用 (7件)
  • 走査形顕微鏡
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-186550   出願人：株式会社日立製作所
  • 特開平2-295042
  • 特開平4-303545
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