特許

J-GLOBAL ID：200903043380084160

露光光学系、光加工装置、露光装置及び光結合装置

発明者： 竹田 次郎 ,  田中 宏和
出願人/特許権者： オムロン株式会社
代理人 (1件)： 中野 雅房
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-272166
公開番号（公開出願番号）：特開平11-097340
出願日： 1997年09月17日
公開日（公表日）： 1999年04月09日
要約：

【要約】【課題】 不均一な強度分布の光ビームを均一な強度分布の光ビームに変換することができ、しかも、スループットが良好で、光源利用効率が高く、照射ビーム広がり角を狭くでき、強度の高い光ビームを入射させても破損の恐れのない露光光学系を提供する。【解決手段】 入射したレーザービームを複数のビームに分割するための複数の光束分割領域を有する分割光学系としてプリズムアレイ27を配置し、各光束分割領域の像をマスク24の表面に結像させる投影光学系として投影レンズ(単レンズ)28を配置し、各光束分割領域の像がマスク24の表面で重畳するように、前記分割光学系により分割された少なくとも一部の光束を光路変更させる光路変更光学系としてプリズムアレイ29を配置した。

請求項（抜粋）：

入射光束を複数の光束に分割するための複数の光束分割領域を有する分割光学系と、前記各光束分割領域の像を被露光面に結像させる投影光学系と、前記各光束分割領域の像が被露光面で重畳するように、前記分割光学系により分割された少なくとも一部の光束を光路変更させる光路変更光学系と、を備えたことを特徴とする露光光学系。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-258049   出願人：株式会社ニコン
• 特開平3-254114
  
• 走査型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-290478   出願人：株式会社ニコン