プラズマ処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：市東禮次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-264694
公開番号（公開出願番号）：特開平10-233297
出願日： 1997年09月29日
公開日（公表日）： 1998年09月02日
要約：

【要約】【課題】プラズマへ無線周波電力を結合するプラズマ処理装置の提供。【解決手段】ウェーハ処理室11に、ウェーハ処理・移動手段12、誘電体製の窓13、及び前記室内にプラズマを誘起させるために誘電体窓13外側に配置した同軸コイル15、16を設けてプラズマ処理装置10とする。コイル及び誘電体窓の形を、所要のプラズマ処理の条件に適合させて最適化することができる。プラズマの一様性を検出し、その検出値に応じて前記コイルの電流を制御してもよい。

請求項（抜粋）：

断面が規則的であり且つ軸線が対向面対の対称中心を通る如き作業容積付き処理室、及び圧倒的に電界を誘起する複数個の無線周波(RF)プラズマ発生アンテナを備え、前記アンテナの各々に前記断面の形状に対応する幾何学的形状のコイル部を設け、複数の該コイル部が相互に及び前記軸線に対し同軸的になるように前記アンテナを前記室の壁面の上又は近傍に配設してなるプラズマ処理装置。

IPC (7件)：

H05H 1/46 , C23C 16/50 , C23F 4/00 , H01L 21/205 , H01L 21/3065 , H01L 21/31 , H01Q 7/00

FI (7件)：

H05H 1/46 L , C23C 16/50 , C23F 4/00 A , H01L 21/205 , H01L 21/31 C , H01Q 7/00 , H01L 21/302 B

引用特許：

出願人引用 (5件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-225695 出願人：株式会社日立製作所
特開平2-005332
プラズマエッチング装置の制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-284206 出願人：東京エレクトロン株式会社

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審査官引用 (7件)

誘導結合プラズマ・リアクタとその方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-049888 出願人：モトローラ・インコーポレイテッド
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-225695 出願人：株式会社日立製作所
特開平2-005332

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