特許

J-GLOBAL ID：200903043387789550

露光装置及びその調整方法、露光方法、並びにデバイス製造方法

発明者： 西永 壽
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-328993
公開番号（公開出願番号）：特開2005-093948
出願日： 2003年09月19日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：

【課題】 マスクと基板とを同期移動させつつマスクに形成されたパターンを基板上に転写する際に、不要な露光光を遮光するために用いられる遮光部材の移動誤差の有無を容易に確認し、調整することができる露光装置等を提供する。【解決手段】 ウェハステージ上にはピンホール41を介した露光光ILを検出する照度センサが取り付けられている。遮光部材としての可動ブラインド15のエッジ15aの像が照度センサのピンホール41上に形成されている状態で、可動ブラインド15とウェハステージとを移動させ、照度センサの出力変化に基づいて可動ブラインド15の移動誤差の有無を測定する。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

マスクと基板とを同期移動させるとともに、光源からの露光光のうちの不要な光を遮光する遮光部材の所定方向への移動を前記マスクと前記基板の少なくとも一方の移動に合わせて制御しつつ、前記マスクに形成されたパターンを前記基板上に逐次転写する露光装置において、 前記遮光部材を前記所定方向に移動させ、その像の少なくとも一部を前記所定方向に対応する検出方向の複数位置で光学的に検出する検出装置と、 前記検出装置の検出結果に基づいて前記遮光部材の前記所定方向の移動を調整する制御装置と を含むことを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (4件)：

H01L21/30 518 ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 516C ,  H01L21/30 516Z

Fターム (11件)：

5F046BA05 ,  5F046CB05 ,  5F046CB23 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046DA01 ,  5F046DA02 ,  5F046DB01 ,  5F046DB11 ,  5F046DC02 ,  5F046DC12

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-234608   出願人：株式会社ニコン
• 特開平04-196513号公報