特許
J-GLOBAL ID:200903043439945342
産業プロセスで用いられる光源に関する方法およびシステム
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
吉田 研二
, 石田 純
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-549689
公開番号(公開出願番号):特表2008-535679
出願日: 2005年12月30日
公開日(公表日): 2008年09月04日
要約:
反応を助長する流体フローに関連して、作業対象の表面または表面下での反応に関するシステムおよび方法を開示する。いくつかの実施形態では、反応の助長は、(1)表面を所定タイプの光に露光させている間に、表面上に不活性流体の流体フローを形成するステップ、(2)作業表面または作業表面下で所定の態様で別の種と反応する反応種を含む流体フローを形成するステップ、または(3)例えば所定タイプの光に露光させている間に、所定の態様で反応の触媒作用を行う触媒種を含む流体フローを形成するステップ、のうちの少なくともいずれかによって行われる。いくつかの実施形態では、光源は、複数の固体光源の密なアレイ等の固体光源を含むものを使用する。このような実施形態のうちの少なくとも1つの実施形態では、反応は光源に関連した光化学反応である。
請求項(抜粋):
ワークピースの少なくとも一つの表面上に流体の流体フローを供給するステップと、
前記ワークピースの前記少なくとも一つの表面に関連して、反応を助長する光で前記ワークピースを露光するステップと、
を含む方法。
IPC (4件):
B29C 35/08
, B05D 3/06
, B05C 9/12
, B01J 19/12
FI (4件):
B29C35/08
, B05D3/06 102Z
, B05C9/12
, B01J19/12 E
Fターム (27件):
4D075BB41Z
, 4D075BB56Z
, 4D075DC24
, 4F042AA02
, 4F042AA08
, 4F042DB41
, 4F042DD38
, 4F203AA36
, 4F203AB03
, 4F203AC05
, 4F203AK03
, 4F203AM30
, 4F203DA12
, 4F203DB02
, 4F203DC08
, 4F203DD01
, 4G075AA30
, 4G075AA32
, 4G075BA04
, 4G075BD01
, 4G075BD14
, 4G075CA32
, 4G075CA54
, 4G075CA63
, 4G075DA02
, 4G075DA18
, 4G075EB31
引用特許:
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