特許
J-GLOBAL ID:200903043442709650

微小領域光処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 澤野 勝文 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-053282
公開番号(公開出願番号):特開2003-255235
出願日: 2002年02月28日
公開日(公表日): 2003年09月10日
要約:
【要約】【課題】光の回折限界以下のナノメータオーダーで光を照射して、微小領域の光加工・光刺激及び熱刺激等の光処理を行えるようにする。【解決手段】光ファイバ(12)の光出射端(12out)のコア(12a)部分を円錐状に尖らせてその頂点(12b)を除いたテーパ面(12c)に金属コーティング膜(14a)が形成されて成るテーパ化ファイバプローブ(14)を顕微鏡(2)の視野下で任意の処理位置に位置決めし、その頂点(12b)から漏光する近接場光を被処理物(W)の微小領域に照射し、その光エネルギーにより任意の光処理を行うようにした。
請求項(抜粋):
被処理物(W)の微小領域にエネルギー光を照射し、その光エネルギーを利用して任意の光処理を行う微小領域光処理装置であって、被処理物(W)を拡大観察する顕微鏡(2)と、光ファイバ(12)の光出射端(12out)に形成されたテーパ化ファイバプローブ(14)と、当該プローブ(14)を前記顕微鏡(2)の視野下で任意の処理位置に位置決めする位置決めユニット(13)と、前記光ファイバ(12)の光入射端(12in)からエネルギー光を入射させる光源装置(11)を備えると共に、前記テーパ化ファイバプローブ(14)は少なくとも光出射端(12out)のコア(12a)部分を円錐状に尖らせてその頂点(12b)を除いたテーパ面(12c)に金属コーティング膜(14a)が形成されていることを特徴とする微小領域光処理装置。
Fターム (1件):
2H052AF19
引用特許:
審査官引用 (2件)

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