微粒子の配列方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西脇民雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-079093
公開番号（公開出願番号）：特開2002-273209
出願日： 2001年03月19日
公開日（公表日）： 2002年09月24日
要約：

【要約】【課題】所望の領域に2次元に微粒子を配列させることのできる、微粒子の配列方法を提案すること。【解決手段】この発明の微粒子Aの配列方法は、界面活性剤を用いて微粒子Aを媒体に分散させた分散液を酸化物基板1表面に展開する微粒子展開工程、酸化物基板1に所定のパターンにより光を照射する光照射工程、前記媒体を除去する媒体除去工程の各工程を組み合わせることを特徴としている。

請求項（抜粋）：

界面活性剤を用いて微粒子を媒体に分散させた分散液を酸化物基板表面に展開する微粒子展開工程、酸化物基板に所定のパターンによりエネルギー線を照射するエネルギー線照射工程、前記媒体を除去する媒体除去工程を組み合わせることを特徴とする微粒子の配列方法。

IPC (3件)：

B01J 19/12 , G11B 5/842 , G11B 5/855

FI (4件)：

B01J 19/12 G , G11B 5/842 A , G11B 5/842 B , G11B 5/855

Fターム (18件)：

4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075BC06 , 4G075BD16 , 4G075CA22 , 4G075DA01 , 4G075FB04 , 5D112AA02 , 5D112AA05 , 5D112AA16 , 5D112BA02 , 5D112BB03 , 5D112BB09 , 5D112BB18 , 5D112CC05 , 5D112CC13 , 5D112GA19 , 5D112GB01

引用特許：

審査官引用 (4件)

金属酸化物薄膜パターン形成用組成物およびその形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-060898 出願人：三菱マテリアル株式会社
超微粒子の配列方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-346432 出願人：沖電気工業株式会社
微粒子膜の転写付着方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-304092 出願人：新技術事業団

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引用文献：

審査官引用 (2件)

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