特許
J-GLOBAL ID：200903043459473960
バッチ生産マイクロレンズアレイ及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
竹本 松司 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-362083
公開番号（公開出願番号）：特開2002-169004
出願日： 2000年11月29日
公開日（公表日）： 2002年06月14日
要約：
【要約】【課題】 バッチ生産マイクロレンズアレイ及びその製造方法の提供。【解決手段】 基板上に第1のポリマー或いは第1のポリマー組成物層を塗布形成し、該第1のポリマー或いは第1のポリマー組成物層の上に第2のポリマー或いは第2のポリマー組成物層を塗布形成する。第1のポリマーのガラス転移温度(Tg)は第2のポリマーのガラス転移温度より高いものとする。続いてリソグラフィーにより第1のポリマー或いは第1のポリマー組成物層及び第2のポリマー或いは第2のポリマー組成物層に同じパターンを形成する。続いてこの基板を該第1のポリマーのガラス転移温度(Tg)より高いが第2のポリマーのガラス転移温度(Tg)より低い作業温度に加熱し、並びにこの基板をこの作業温度に保持して第2のポリマーにマイクロレンズを形成させ、最後に該マイクロレンズを冷却する。このバッチ生産したマイクロレンズは、基板表面上に位置し、且つ該マイクロレンズは、該基板表面の上に位置する底座と該底座の表面の上に位置する球形レンズを包括する。
請求項（抜粋）：
基板上に第1のポリマー或いは第1のポリマー組成物層を塗布形成するステップと、該第1のポリマー或いは第1のポリマー組成物層の上に、第1のポリマーのガラス転移温度(Tg)より低いガラス転移温度(Tg)を有する第2のポリマー或いは第2のポリマー組成物層を塗布形成するステップと、リソグラフィーにより第1のポリマー或いは第1のポリマー組成物層と、第2のポリマー或いは第2のポリマー組成物層とに同じ円形のパターンを形成し、第2のポリマー或いは第2のポリマー組成物層における該円形のパターンの厚さ対幅の比の値が0.6以上とするステップと、この基板を該第1のポリマーのガラス転移温度(Tg)より高いが第2のポリマーのガラス転移温度(Tg)より低い作業温度に加熱してリフローを行い、並びにこの基板をこの作業温度に保持して第2のポリマーにマイクロレンズを形成させるステップと、該マイクロレンズを冷却するステップと、を包括する、バッチ生産マイクロレンズアレイの製造方法。
IPC (4件)：
G02B 3/00
, B29D 11/00
, B29K 35:00
, B29K 77:00
G02B 3/00 A
, G02B 3/00 Z
, B29D 11/00
, B29K 35:00
, B29K 77:00
4F213AA20
, 4F213AA40
, 4F213AH74
, 4F213WA41
, 4F213WA53
, 4F213WA58
, 4F213WA83
, 4F213WB01
