特許
J-GLOBAL ID:200903043549328292
色変換膜の製造方法及び色変換基板
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
渡辺 喜平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-206349
公開番号(公開出願番号):特開2006-032022
出願日: 2004年07月13日
公開日(公表日): 2006年02月02日
要約:
【課題】 色変換膜の性能を低下させることなく、高精細な色変換膜を製造できる色変換膜の製造方法及びそれにより得られる色変換膜を提供する。【解決手段】 エチレン性不飽和基を含む色変換膜材料から色変換膜を製造する方法において、露光工程及び/又は加熱工程を、低酸素雰囲気で実施することを特徴とする色変換膜の製造方法。好ましくは、色変換膜はフォトリソグラフィー法により製造する。【選択図】 無し
請求項(抜粋):
エチレン性不飽和基を含む色変換膜材料から色変換膜を製造する方法において、
露光工程及び/又は加熱工程を、低酸素雰囲気で実施することを特徴とする色変換膜の製造方法。
IPC (3件):
H05B 33/12
, H05B 33/10
, H01L 51/50
FI (3件):
H05B33/12 E
, H05B33/10
, H05B33/14 A
Fターム (7件):
3K007AB04
, 3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007BB06
, 3K007DB03
, 3K007FA00
, 3K007FA01
引用特許: