特許
J-GLOBAL ID:200903043647783623
超純水製造装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
重野 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-142867
公開番号(公開出願番号):特開2006-314971
出願日: 2005年05月16日
公開日(公表日): 2006年11月24日
要約:
【課題】薬品再生型のイオン交換装置の代りに、2段逆浸透膜装置、電気再生式脱塩装置、或いはこれらを組み合わせた脱塩装置を有する超純水製造装置において、ほう素を高度に除去して高純度の超純水を製造する。【解決手段】被処理水中の懸濁物質を前処理装置1で除去した後、脱塩装置で脱塩処理する超純水製造装置であって、該脱塩装置として2段逆浸透膜装置3及び/又は電気再生式脱塩装置4を備え、薬品再生型のイオン交換装置を備えていない超純水製造装置において、前処理装置1にほう素選択性吸着剤を添加する手段を設ける。【選択図】図1
請求項(抜粋):
被処理水中の懸濁物質を前処理装置で除去した後、脱塩装置で脱塩処理する超純水製造装置であって、
該脱塩装置として2段逆浸透膜装置及び/又は電気再生式脱塩装置を備え、薬品再生型のイオン交換装置を備えていない超純水製造装置において、
前記前処理装置及び/又は該前処理装置に導入される被処理水にほう素選択性吸着剤を添加する手段を設けたことを特徴とする超純水製造装置。
IPC (9件):
C02F 1/44
, B01D 61/04
, B01D 61/48
, B01D 61/58
, B01J 20/06
, B01J 20/22
, B01J 20/26
, C02F 1/28
, C02F 1/469
FI (9件):
C02F1/44 J
, B01D61/04
, B01D61/48
, B01D61/58
, B01J20/06 A
, B01J20/22 B
, B01J20/26 C
, C02F1/28 F
, C02F1/46 103
Fターム (35件):
4D006GA03
, 4D006GA17
, 4D006JA30Z
, 4D006KA02
, 4D006KA52
, 4D006KB12
, 4D006PA01
, 4D006PB04
, 4D006PC02
, 4D024AA03
, 4D024AB14
, 4D024BA14
, 4D024BA16
, 4D024BA17
, 4D024BB01
, 4D024BC04
, 4D024DB03
, 4D024DB05
, 4D024DB09
, 4D024DB19
, 4D024DB21
, 4D061DA02
, 4D061DB13
, 4D061EA09
, 4D061FA06
, 4D061FA08
, 4D061FA09
, 4D061FA14
, 4G066AA12B
, 4G066AB06B
, 4G066AB13B
, 4G066AC01B
, 4G066AD06B
, 4G066CA21
, 4G066DA07
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (3件)
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脱塩水製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-080543
出願人:栗田工業株式会社
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特開平4-108502
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特許第3426072号
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