特許
J-GLOBAL ID：200903069846860369

脱塩水製造装置

発明者：
山田 聡

山田 聡 について

, 
小泉 求

小泉 求 について

, 
育野 望

育野 望 について


出願人/特許権者：
栗田工業株式会社

栗田工業株式会社 について


代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-080543
公開番号（公開出願番号）：特開2004-000919
出願日： 2003年03月24日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：
【課題】ホウ素及びTOC濃度が著しく低い高水質の脱塩水を、高い水回収率で安定に製造する。【解決手段】脱塩装置2の濃縮水をホウ素除去装置5で処理した後脱塩装置2の入口側へ戻して循環処理する脱塩水製造装置。濃縮水の循環処理で水回収率を高める。濃縮水をホウ素除去装置5で処理して循環処理することにより、ホウ素の濃縮を防止して高水質の脱塩水を得る。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ホウ素含有水が供給され、該ホウ素含有水を脱塩水と濃縮水とに分離する脱塩装置と、 該脱塩装置から排出される濃縮水を、該脱塩装置の上流側に戻す返送路と、 該返送路の途中に設けられ、該濃縮水中のホウ素を除去するホウ素除去装置とを有することを特徴とする脱塩水製造装置。
IPC (7件)：
C02F1/58 ,  B01D61/02 ,  B01D61/48 ,  B01D61/58 ,  C02F1/42 ,  C02F1/44 ,  C02F1/469
FI (7件)：
C02F1/58 H ,  B01D61/02 500 ,  B01D61/48 ,  B01D61/58 ,  C02F1/42 H ,  C02F1/44 H ,  C02F1/46 103
Fターム (34件)：
4D006GA03 ,  4D006GA17 ,  4D006JA30Z ,  4D006KA02 ,  4D006KA52 ,  4D006KA53 ,  4D006KA54 ,  4D006KA55 ,  4D006KA56 ,  4D006KA72 ,  4D006KB11 ,  4D006KB12 ,  4D006KB17 ,  4D006KD17 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D025AA03 ,  4D025AB33 ,  4D025BA17 ,  4D025BB04 ,  4D025DA05 ,  4D025DA07 ,  4D038AA01 ,  4D038AB25 ,  4D038BA04 ,  4D038BB08 ,  4D038BB09 ,  4D038BB10 ,  4D061DA01 ,  4D061DB13 ,  4D061EA09 ,  4D061EB13 ,  4D061FA08 ,  4D061FA11
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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