特許
J-GLOBAL ID:200903043658276278
触媒の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
社本 一夫
, 小野 新次郎
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 中田 尚志
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-511799
公開番号(公開出願番号):特表2008-540114
出願日: 2006年05月09日
公開日(公表日): 2008年11月20日
要約:
触媒の支持体を硝酸コバルトに含浸させることによって形成されるコバルト触媒前駆体中の硝酸塩含量を低くする方法であって、該含浸させた支持体を空気中で焼成し、部分的に脱窒させること、その後、不活性ガス中に0.1〜10体積%の水素を含むガス混合物の存在下で、焼成された含浸させた支持体を250°C未満の温度に加熱することを含む前記方法を説明する。
請求項(抜粋):
触媒の支持体を硝酸コバルトに含浸させることによって形成されるコバルト触媒前駆体中の硝酸塩含量を低くする方法であって、該含浸させた支持体を空気中で焼成し、部分的に脱窒させること、その後、不活性ガス中に0.1〜10体積%の水素を含むガス混合物の存在下で、焼成された含浸させた支持体を250°C未満の温度に加熱すること、を含む、前記方法。
IPC (2件):
FI (2件):
B01J23/74 311M
, B01J37/08
Fターム (11件):
4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169BC67A
, 4G169BC67B
, 4G169CC23
, 4G169DA03
, 4G169EA01Y
, 4G169FB14
, 4G169FB20
, 4G169FB30
, 4G169FB44
引用特許:
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