特許
J-GLOBAL ID：200903043787839823
分光分析装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北村 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-163477
公開番号（公開出願番号）：特開平8-029333
出願日： 1994年07月15日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：
【要約】【目的】 試料の大きさや形状が異なっても、簡単に試料に含まれる成分を求めることができる分光分析装置を提供する。【構成】 光源1からの測定用光線束を試料に照射する照射部3と、試料を透過した透過光を受光する受光部4と、その受光部4が受光した透過光の分光スペクトルを得て、得られた分光スペクトルに基づいて試料に含まれる成分を求める分光分析手段6が設けられた分光分析装置において、照射部3と受光部4との間隔を変更する間隔変更手段7と、照射部3と受光部4との間隔を測定する間隔測定手段8が設けられ、分光分析手段6は、間隔測定手段8が測定した間隔に基づいて求める成分を補正するように構成されている。
請求項（抜粋）：
光源(1)からの測定用光線束を試料に照射する照射部(3)と、前記試料を透過した透過光を受光する受光部(4)と、その受光部(4)が受光した透過光の分光スペクトルを得て、得られた分光スペクトルに基づいて前記試料に含まれる成分を求める分光分析手段(6)が設けられた分光分析装置であって、前記照射部(3)と前記受光部(4)との間隔を変更する間隔変更手段(7)と、前記照射部(3)と前記受光部(4)との間隔を測定する間隔測定手段(8)が設けられ、前記分光分析手段(6)は、前記間隔測定手段(8)が測定した間隔に基づいて求める成分を補正するように構成されている分光分析装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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