基板上に形成される多孔質材料の製造法

発明者： , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：喜多俊文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-087782
公開番号（公開出願番号）：特開2000-281329
出願日： 1999年03月30日
公開日（公表日）： 2000年10月10日
要約：

【要約】【課題】本発明は、所望する中心細孔径と狭い分布を持つ細孔構造を再現性良く与え、しかも膜面積全域にわたって再現性の高い均質な構造を持ち、その結果高い分離性能や表面反応特性を与える、基板上に形成された無機系多孔質体の製造方法を確立することを目的とする。【解決手段】本発明は、まず基板上に約100nm以上の巨大空孔となる溶媒リッチ相あるいは約100nm以上の担体部となる骨格相を持つゲル膜をゾル-ゲル法によって作製し、続いて加熱処理を行うことにより、溶媒リッチ相領域あるいは骨格相領域の形状が、ゲル相の厚さを貫く円柱形、あるいは溶媒リッチ相および骨格相がともにゲル相の厚さを貫き基板に平行な次元に共連続である形態、あるいはゲル相の厚さより小さい円盤形および液滴形に分散した溶媒リッチ相領域からなる、均質な多孔構造を持ったゲルを作製する。

請求項（抜粋）：

ゾル-ゲル法により基板上に、溶媒に富む溶媒リッチ相とゲル形成物質に富み表面に細孔を有する骨格相とからなるゲルを調製し、乾燥・加熱することを特徴とする多孔質体の製造方法。

Fターム (22件)：

4G072AA28 , 4G072BB09 , 4G072CC13 , 4G072FF01 , 4G072FF04 , 4G072FF07 , 4G072GG03 , 4G072HH30 , 4G072JJ11 , 4G072JJ13 , 4G072LL06 , 4G072LL07 , 4G072LL14 , 4G072MM01 , 4G072MM31 , 4G072MM36 , 4G072NN21 , 4G072PP17 , 4G072RR05 , 4G072TT01 , 4G072UU17 , 4G072UU30

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-193708
特開平4-280802
シリカ系多孔体及びこれを用いた分離方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-247298 出願人：株式会社豊田中央研究所, 富士シリシア化学株式会社

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