特許
J-GLOBAL ID：200903043839510531
縦型熱処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-086340
公開番号（公開出願番号）：特開平6-302523
出願日： 1993年04月13日
公開日（公表日）： 1994年10月28日
要約：
【要約】【目的】 大口径化の半導体ウエハやLCD基板などの大形の被処理物であっても、温度分布の面内均一化を図りながら所定の処理温度まで素早く加熱できて、高精度な熱処理が効率良くできる縦型熱処理装置を提供することにある。【構成】 ヒータユニットを付設した縦型のプロセス容器11内に、ウエア3を下方から挿脱するローディング機構31を、昇降駆動部32により昇降する外筒軸33と、この上部に配する均熱プレート34と、この上側にウエハ3を水平状態に保持して回転しながらアップダウンする回転ホルダー35とを有する構成としたことを特徴とす。
請求項（抜粋）：
発熱源を付設した縦型のプロセス容器と、被処理物を保持し前記プロセス容器内に下方から挿脱するローディング機構とを備え、その被処理物をプロセス容器内で所定の処理温度に加熱して所要の処理を施す縦型熱処理装置であって、前記ローディング機構は、昇降駆動部によりプロセス容器内に下方から挿脱可能な昇降部材と、この昇降部材の上部に配する均熱プレートと、この均熱プレートの上側に被処理物を水平状態に保持して回転する回転ホルダーとを有する構成としたことを特徴とする縦型熱処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, H01L 21/31
, H01L 21/324
