特許

J-GLOBAL ID：200903043847400834

基板のプラズマクリーニング装置

発明者： 土師 宏
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-026474
公開番号（公開出願番号）：特開平10-223725
出願日： 1997年02月10日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 ワイヤボンディング装置などの下流側の装置とのインライン化が可能で装置効率がよく、また基板の品種変更にともなう段取り換えが容易な基板のプラズマクリーニング装置を提供することを目的とする。【解決手段】 真空チャンバ5はベース板3上に蓋部4を開閉自在に配置して成る。高周波電源から高周波電圧が印加される電極6は、下部電極6cと中電極6bと上部電極6aから成る。上部電極6aは真空チャンバ5内にあって、プラズマクリーニングの対象物である基板21の載置部を兼ねる。上部電極6aには基板21の搬送をガイドする凸部28が形成される。プラズマクリーニングが終了した基板21は、凸部28にガイドされて上部電極6a上をスライドし、ワイヤボンディング装置へ搬送される。基板21の品種変更にともない基板のサイズが変わるときは、上部電極6aのみが交換される。

請求項（抜粋）：

ベース板およびこのベース板上に配設される蓋部とから成る真空チャンバと、蓋部を開閉する開閉手段と、真空チャンバ内にプラズマ発生用ガスを供給するガス供給手段と、ベース板を貫通して配置される電極と、この電極に高周波電圧を印加する高周波電源とを備え、前記電極が、下部電極と、この下部電極上に着脱自在に装着され且つ前記真空チャンバ内に配置されて基板の載置部を兼務する上部電極とから成り、この上部電極に基板の両側端部に当接して基板の搬送をガイドするガイド部を形成することにより、基板搬送手段により基板を上部電極上から下流側の装置へそのまま搬送できるようにしたことを特徴とする基板のプラズマクリーニング装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/304 341

FI (3件)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/304 341 D ,  H01L 21/302 N

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平4-311044
  
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-049993   出願人：東京エレクトロン株式会社