ポジ型ホトレジスト塗布液

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：阿形明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-014681
公開番号（公開出願番号）：特開平9-211855
出願日： 1996年01月30日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：

【要約】【課題】溶剤の安全性が高く、基板全体にわたって膜厚の均一塗膜形成が可能で、面内均一性に優れ、また、濡れ性、密着性及び保存安定性が良好で、かつ乾燥性のよいポジ型ホトレジスト塗布液を提供する。【解決手段】 (A)アルカリ可溶性樹脂及び(B)キノンジアジド基含有化合物を(C)(イ)酢酸3-メトキシブチル60〜90重量%、(ロ)β-メトキシイソ酪酸メチル40〜10重量%から成る混合溶剤に溶解したことを特徴とするポジ型ホトレジスト塗布液とする。

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ可溶性樹脂及び(B)キノンジアジド基含有化合物を(C)(イ)酢酸3-メトキシブチル60〜90重量%、(ロ)β-メトキシイソ酪酸メチル40〜10重量%から成る混合溶剤に溶解したことを特徴とするポジ型ホトレジスト塗布液。

IPC (3件)：

G03F 7/022 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/022 , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

出願人引用 (2件)

ポジ型レジスト溶液
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-072120 出願人：日本合成ゴム株式会社
特開平3-127067

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