特許

J-GLOBAL ID：200903043936818320

粒子線治療装置

発明者： 千葉 大春 ,  藤島 康剛
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-433617
公開番号（公開出願番号）：特開2005-185703
出願日： 2003年12月26日
公開日（公表日）： 2005年07月14日
要約：

【課題】一治療室における単位時間当たりの治療人数を増加できる粒子治療装置を提供する。【解決手段】イオンビームを出射する荷電粒子ビーム発生装置1と、荷電粒子ビーム発生装置1から出射されたイオンビームを照射対象に照射する照射装置15A〜15C,16と、荷電粒子ビーム発生装置1から出射されたイオンビームを照射装置15A〜15C,16に輸送するビーム輸送系4,5A〜5Dと、荷電粒子ビーム発生装置1及びビーム輸送系4,5A〜5Dに設けられた電磁石の励磁電流をそれぞれ指令する指令データを、グループ1データとグループ2データにより構成する中央制御装置100とを備える。【選択図】 図6

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームを出射する荷電粒子ビーム発生装置と、 前記荷電粒子ビーム発生装置から出射された前記荷電粒子ビームを照射対象に照射する照射装置と、 前記荷電粒子ビーム発生装置から出射された前記荷電粒子ビームを前記照射装置に輸送するビーム輸送系と、 前記荷電粒子ビーム発生装置及び前記ビーム輸送系に設けられた電磁石の励磁電流をそれぞれ指令する指令値群を、第1の指令値群と第2の指令値群により構成する制御装置とを備えたことを特徴とする粒子線治療装置。

IPC (6件)：

A61N5/10 ,  A61N5/01 ,  G21K5/04 ,  G21K5/10 ,  H05H7/10 ,  H05H13/04

FI (8件)：

A61N5/10 H ,  A61N5/01 A ,  G21K5/04 A ,  G21K5/04 D ,  G21K5/10 M ,  H05H7/10 ,  H05H13/04 M ,  H05H13/04 N

Fターム (13件)：

2G085AA13 ,  2G085BA11 ,  2G085BA14 ,  2G085BC15 ,  2G085CA21 ,  2G085EA07 ,  4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE03 ,  4C082AG01 ,  4C082AG02 ,  4C082AG12 ,  4C082AG53

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 放射線治療設備のためのビーム経路コントロール及びセキュリティシステム
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平8-525073   出願人：ロマリンダユニヴァーシティメディカルセンター

審査官引用 (3件)

• 荷電粒子ビーム装置およびその運転方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-123119   出願人：株式会社日立製作所
• 円形加速器の制御方法及び制御装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-214617   出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立情報制御システム
• ロボット制御装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-097707   出願人：横河電機株式会社