特許
J-GLOBAL ID:200903043948440578
無機薄膜成膜方法
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-335899
公開番号(公開出願番号):特開2005-104994
出願日: 2003年09月26日
公開日(公表日): 2005年04月21日
要約:
【課題】プラスチックフィルムのような耐熱性の低い基材であっても、低温で緻密な無機薄膜を成膜できるようにする。【解決手段】加水分解性を有する金属化合物と前記金属化合物中の金属を化学修飾する有機化合物(化学修飾剤)とを混合したものを含む原料の気化ガスを、基材中に含ませた水分と基材表面近傍において反応させることにより基材表面上に金属酸化物膜を形成し、その直後に前記金属酸化物膜を熱処理することにより緻密化する。このように、加水分解性を有する金属化合物と化学修飾剤とを混合したガス成分を、基材中に含ませた水分と基材表面近傍において反応させることで、耐熱性の低い基材の表面であっても無機薄膜を安定して成膜することでき、さらに成膜直後に熱処理を行うことで膜が緻密化して膜の屈折率が向上する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
加水分解性を有する金属化合物と前記金属化合物中の金属を化学修飾する有機化合物とを混合したものを含む原料の気化ガスを、基材中に含ませた水分と基材表面近傍において反応させることにより基材表面上に金属酸化物膜を形成し、その直後に前記金属酸化物膜を熱処理することにより緻密化することを特徴とする無機薄膜成膜方法。
IPC (4件):
C08J7/06
, C23C16/40
, C23C16/56
, G02B1/10
FI (5件):
C08J7/06 Z
, C08J7/06
, C23C16/40
, C23C16/56
, G02B1/10 Z
Fターム (26件):
2K009AA15
, 2K009BB02
, 2K009BB04
, 2K009BB11
, 2K009CC02
, 2K009DD01
, 2K009DD06
, 4F006AA35
, 4F006AB73
, 4F006BA02
, 4F006BA05
, 4F006BA07
, 4F006BA14
, 4F006EA01
, 4F006EA05
, 4K030AA09
, 4K030AA11
, 4K030AA14
, 4K030AA18
, 4K030AA24
, 4K030BA46
, 4K030CA07
, 4K030CA17
, 4K030DA09
, 4K030FA10
, 4K030LA00
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
金属酸化物膜蒸着装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-218647
出願人:旭化成工業株式会社, 斎藤秀俊
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